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J-GLOBAL ID:200903048782272827
放射線感応性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大垣 孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993306954
Publication number (International publication number):1995159997
Application date: Dec. 08, 1993
Publication date: Jun. 23, 1995
Summary:
【要約】【目的】 水による現像ができかつ従来より高感度な放射線感応性樹脂組成物を提供すること。【構成】 酸により脱離可能な置換基例えばt-ブトキシカルボニロキシ基によってOH基が保護されているポリビニルアルコール誘導体144g(1mol)と、露光により酸を発生する酸発生剤例えばトリフェニルスルホニウムトリフレート8.25g(0.02mol)とを含む放射線感応性樹脂組成物。
Claim (excerpt):
酸により脱離可能な置換基によってOH基が保護されているポリビニルアルコール誘導体と、露光により酸を発生する酸発生剤とを含むことを特徴とする放射線感応性樹脂組成物。
IPC (9):
G03F 7/038 505
, G03F 7/004 503
, G03F 7/021 511
, G03F 7/028
, G03F 7/039 501
, G03F 7/20 501
, G03F 7/26 511
, G03F 7/40 501
, H01L 21/027
FI (4):
H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 569 A
, H01L 21/30 571
, H01L 21/30 573
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