Pat

J-GLOBAL ID：200903048795197298

光学素子成形用型およびその製造方法

Inventor： 米田 靖弘
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 奈良 武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994298287
Publication number (International publication number)：1996157224
Application date： Dec. 01, 1994
Publication date： Jun. 18, 1996
Summary：

【要約】【目的】 成形面に形成されたガラスとの融着を防止する離型膜が型基材から剥離することに対する耐久性を著しく向上する。また、容易に製造する。【構成】 光学素子成形用型基材1の成形加工面2にイオンビームスパッタ法によりWC膜3を形成する。その上にCr-N膜4を形成し、2時間アニールして成形面5を形成する。

Claim (excerpt)：

成形面に離型膜を被膜した光学素子成形用型において、前記光学素子成形用型の成形面と離型膜との間に光学素子成形用型の基材の主成分を含有する薄膜を介在させたことを特徴とする光学素子成形用型。