Pat

J-GLOBAL ID：200903048801274739

プラズマ処理装置

Inventor： 大久保 守
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993352894
Publication number (International publication number)：1995201811
Application date： Dec. 28, 1993
Publication date： Aug. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】誘導手段によるプラズマ処理を行う被処理体の被処理面側の対向空間から、前記誘導手段を他の空間へ移す。【構成】気密な容器1内に設けられた被処理体3のプラズマ処理を行うに際し、プラズマ13を生起する誘導手段5を、前記被処理体3の被処理面と反対面側に設ける。

Claim (excerpt)：

気密な容器内にプラズマを生起する誘導手段を備え、この誘導手段と前記プラズマとの間に前記プラズマにより処理を行う被処理体を設けることを特徴とするプラズマ処理装置。