基板への回転式塗布装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：間宮武雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995120717
Publication number (International publication number)：1996293457
Application date： Apr. 21, 1995
Publication date： Nov. 05, 1996
Summary：

【要約】【目的】基板への塗布操作を開始する前に行なっていた基板回転駆動用モータの回転数の調節作業を不要にすることができ、それほど大掛かりな装置とならず、作業効率の良い装置を提供する。【構成】上方が開口したカップ14を大気開放空間に配設し、カップ外部に大気圧センサ36を配置する。大気圧センサによって測定された気圧の値に基づき、気圧の変化を相殺して基板Wの表面に形成される塗布膜の厚みの変動を無くする制御値をCPU40で算出し、その制御値に従って空調機26を制御し、カップの周囲へ供給される清浄空気の温度及び湿度を調整する。

Claim (excerpt)：

基板を水平姿勢に保持して鉛直軸回りに回転させる基板保持・回転手段と、上方が開口し、前記基板保持・回転手段に保持された基板の側方及び下方を包囲して基板から飛散する塗布液を回収するカップと、このカップの内部を排気する排気手段と、前記基板保持・回転手段に保持された基板の表面へ塗布液を供給する塗布液供給手段と、前記基板保持・回転手段に基板を保持させる前に基板の温度を調整する基板温調手段と、前記カップの周囲の大気開放空間へ温度及び湿度が調整された清浄空気を供給する給気手段とを備えた基板への回転式塗布装置において、前記カップの外部に、カップ周囲の大気開放空間の気圧を測定するための気圧測定手段を設けるとともに、その気圧測定手段によって測定された気圧の値に基づき、基板表面に形成される塗布膜の厚みに影響を及ぼす1つもしくは2以上の膜厚変動因子について、気圧の変化を相殺して塗布膜の厚みの変動を無くする制御値を算出する演算手段を設け、その演算手段によって算出された制御値に基づいて1つもしくは2以上の調節部へ制御信号を出力する制御手段を設けたことを特徴とする、基板への回転式塗布装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , G03F 7/16 502

FI (3)：

H01L 21/30 564 C , B05C 11/08 , G03F 7/16 502

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

フオトレジスト塗布装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-331464 Applicant：日本電気株式会社
特開昭59-167010
特開平2-227162

Show all

Return to Previous Page