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J-GLOBAL ID：200903048924362896

電解コンデンサおよびその製造方法

Inventor：
橋本 恵美子

About 橋本 恵美子

, 
棚橋 正和

About 棚橋 正和

, 
林 千春

About 林 千春


Applicant, Patent owner：
松下電器産業株式会社

About 松下電器産業株式会社


Agent (1)： 青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998057853
Publication number (International publication number)：1999074157
Application date： Mar. 10, 1998
Publication date： Mar. 16, 1999
Summary：
【要約】【課題】 陰極としての導電性高分子層を、誘電体層を形成した陽極金属の多孔体の内部の空孔表面に優先的に形成することにより、空孔内に均質に形成し容量達成率を向上させることを目的とする。【解決手段】 化学酸化重合法で導電性高分子層を形成する際に、まずモノマー、酸化剤及びドーパントを含む溶液中に誘電体層を形成した弁金属多孔体を浸漬し、その後多孔体を溶液中に浸漬したままあるいは多孔体を引き上げた後、多孔体あるいは多孔体内部の温度を多孔体外部の溶液温度より高く保持することにより、多孔体内部の化学酸化重合反応速度を外部の重合反応速度より速くする。多孔体の空孔内でのモノマーの重合を促進して、優先的に且つ効率的に空孔内部で重合させ、これにより、多孔体の中心部まで内部の空孔に充分導電性高分子層を形成することができ、容量達成率を向上させることができる。
Claim (excerpt)：
陽極が弁金属多孔体であり、誘電体層が該弁金属の酸化物層であり、且つ、陰極がドーパントを含む導電性高分子層である電解コンデンサの製造方法であって、前記導電性高分子層が、そのモノマーを重合可能な酸化剤とドーパントを含む溶液中で重合させてなるポリマー層であって、前記導電性高分子層の形成方法が、モノマーと酸化剤とドーパントとを含む溶液中に、前記誘電体層を形成した弁金属多孔体を浸漬し、その後該多孔体を該溶液中に浸漬したまま、多孔体若しくは多孔体内部の温度を多孔体外部の前記溶液温度より高く保持して、多孔体内部の重合反応を溶液中の重合反応より速くして多孔体内部に導電性ポリマーを形成することを特徴とする電解コンデンサの製造方法。
IPC (2)：
H01G 9/028 ,  H01G 9/00
FI (3)：
H01G 9/02 331 H ,  H01G 9/02 331 G ,  H01G 9/24 A
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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