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J-GLOBAL ID：200903048926977901

強誘電体薄膜微細パターン形成剤及び強誘電体薄膜微細パターン形成方法

Inventor： 神澤 公
Applicant, Patent owner： ローム株式会社
Agent (1)： 金山 敏彦 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991299289
Publication number (International publication number)：1993132562
Application date： Nov. 14, 1991
Publication date： May. 28, 1993
Summary：

【要約】【目的】 簡略な工程で強誘電体薄膜の微細パターンを形成できる強誘電体薄膜微細パターン形成剤及び強誘電体薄膜微細パターン形成方法を提供する。【構成】 本実施例においては、化1のような感応性ポリマーを含む強誘電体薄膜微細パターン形成剤を作成し、これを基板上に均一にコーティングした後に、所定のパターンに沿って光照射を行い、分子間に架橋を形成させて当該部分のみの流動性を低下させてから、当該部分以外を除去することによって、所定のパターンだけを選択的に基板上に残し、これを600°C〜700°Cで加熱処理することによって、有機官能基部分が酸化除去すると共に結晶化を起させることによって、基板上に所定のパターンに沿った強誘電体薄膜の微細パターンを形成する。【化1】

Claim (excerpt)：

化1に示されるポリマーに電磁波あるいは粒子線に感応して該ポリマー間に架橋を形成させる官能基を有する化合物を縮合させて作成される感応性ポリマーを含む強誘電体薄膜微細パターン形成剤。【化1】

IPC (3)：

C08G 79/00 NUR ,  G03F 7/004 511 ,  G03F 7/038 505