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J-GLOBAL ID：200903048964522454

回折光学素子の製造方法および回折光学素子の製造に用いる金型の製作方法

Inventor： 河上 育雄 ,  小尾 邦寿
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 奈良 武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000144388
Publication number (International publication number)：2001322130
Application date： May. 17, 2000
Publication date： Nov. 20, 2001
Summary：

【要約】【課題】 未加工のまま残るR部や細かい表面粗さが実質的に存在せず、かつ斜面部の平面度が良好なブレーズ形状を有し、回折効率の高い回折光学素子を得る。【解決手段】 所望の形状を有する回折光学素子の製造方法において、所望の形状に対応する形状より深い形状のマスター型1を製作する工程と、使用する波長帯域で実質的に透明である基板2上に、基板2よりも加工し易い材料を用いて加工層3を形成する工程と、製作されたマスター型1を用いて加工層3を成形する工程と、成形された加工層3の凸部端面R3を所望の形状に対応する形状まで除去加工する工程と、加工層3および基板2をエッチングにより、加工層3の表面形状を深さ方向に相似的に基板2に形成する工程とを有する。

Claim (excerpt)：

所望の形状を有する回折光学素子の製造方法において、所望の形状に対応する形状より深い形状のマスター型を製作する工程と、使用する波長帯域で実質的に透明である基板上に、該基板よりも加工し易い材料を用いて加工層を形成する工程と、前記製作されたマスター型を用いて前記加工層を成形する工程と、前記成形された加工層の凸部端面を所望の形状に対応する形状まで除去加工する工程と、前記加工層および前記基板をエッチングにより、前記加工層の表面形状を深さ方向に相似的に前記基板に形成する工程とを有することを特徴とする回折光学素子の製造方法。

IPC (5)：

B29C 33/38 ,  C03B 11/08 ,  C03C 15/00 ,  G02B 5/18 ,  B29L 11:00

FI (5)：

B29C 33/38 ,  C03B 11/08 ,  C03C 15/00 D ,  G02B 5/18 ,  B29L 11:00

F-Term (31)：

2H049AA03 ,  2H049AA04 ,  2H049AA13 ,  2H049AA14 ,  2H049AA37 ,  2H049AA39 ,  2H049AA40 ,  2H049AA41 ,  2H049AA43 ,  2H049AA44 ,  2H049AA45 ,  2H049AA46 ,  2H049AA51 ,  2H049AA53 ,  2H049AA55 ,  2H049AA61 ,  2H049AA63 ,  2H049AA64 ,  4F202AA44 ,  4F202AH73 ,  4F202CA11 ,  4F202CB01 ,  4F202CD02 ,  4F202CD12 ,  4F202CD24 ,  4G059AA11 ,  4G059AB06 ,  4G059AB07 ,  4G059AC01 ,  4G059BB01 ,  4G059BB13