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J-GLOBAL ID：200903048971049624

化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法

Inventor： 畠山 潤 ,  原田 裕次 ,  河合 義夫 ,  笹子 勝 ,  遠藤 政孝 ,  岸村 眞治 ,  大谷 充孝 ,  小森谷 治彦 ,  前田 一彦
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社 ,  松下電器産業株式会社 ,  セントラル硝子株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002276743
Publication number (International publication number)：2003177539
Application date： Sep. 24, 2002
Publication date： Jun. 27, 2003
Summary：

【要約】【解決手段】 (A)フッ素原子を少なくとも1個含む繰り返し単位を有する高分子化合物、(B)式(1)の化合物、【化1】(R1、R2はH、F、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基、R1とR2の内少なくとも一方がフッ素原子を含む。R3は単結合又はアルキレン基、R4は少なくとも1個の芳香環又はジエン環を有する炭素数4〜40のn価の有機基、R5はH又はC(=O)R6であり、R6はH又はCH3である。nは2,3又は4である。)(C)有機溶剤、(D)酸発生剤を含有する化学増幅レジスト材料。【効果】 本発明のレジスト材料は、高エネルギー線に感応し、200nm以下、特に170nm以下の波長における感度と透明性が優れている。

Claim (excerpt)：

(A)フッ素原子を少なくとも1個含む繰り返し単位を有する高分子化合物、(B)下記一般式(1)で示される化合物、【化1】(式中、R1、R2は水素原子、フッ素原子、又は炭素数1〜4のアルキル基又はフッ素化されたアルキル基であり、R1とR2の内いずれか一方又は双方は少なくとも1個のフッ素原子を含む。R3は単結合又は炭素数1〜4のアルキレン基を示し、R4は少なくとも1個の芳香環又はジエン環を有する炭素数4〜40のn価の有機基であり、R5は水素原子又はC(=O)R6であり、R6は水素原子又はメチル基である。nは2,3又は4である。)(C)有機溶剤、(D)酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅レジスト材料。

IPC (7)：

G03F 7/039 601 ,  C08F214/18 ,  C08F220/00 ,  C08F220/22 ,  C08F234/00 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/039 601 ,  C08F214/18 ,  C08F220/00 ,  C08F220/22 ,  C08F234/00 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (33)：

2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07R ,  4J100AC21P ,  4J100AC26P ,  4J100AC29P ,  4J100AF15S ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA07Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BB18R ,  4J100BB18S ,  4J100BC03R ,  4J100BC07Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA06 ,  4J100DA62 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (12)

• 特公平2-27660号公報
  
• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-083404   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-144437   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-132291   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 特開昭63-27829号公報
  
• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-050264   Applicant：富士通株式会社
• デバイス製造のためのパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-049956   Applicant：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
• レジスト組成物およびその利用
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-063775   Applicant：日本ゼオン株式会社
• WO97/33198号公報
  
• ポジ型感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-170197   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-083403   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-082404   Applicant：富士写真フイルム株式会社