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J-GLOBAL ID：200903048997781935

多層エピタキシャル成長装置用融液供給装置

Inventor： 野村 重彦
Applicant, Patent owner： 日新製鋼株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994127996
Publication number (International publication number)：1995315985
Application date： May. 19, 1994
Publication date： Dec. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】成長用融液ホルダーとシャッターが互いに摩擦することを防止して、寿命を延ばすとともに、摩擦面を常に良好な状態として、成長用融液の外部への流出を未然に防ぐ。【構成】この融液供給装置は、複数種類の成長用融液を収容する融液ホルダー9と成長用融液を順次基板結晶列ホルダー6内に供給する為にシャッター機能を有する蓋体6aと、その摩擦面にそれぞれに脱着可能かつ固定できる黒鉛薄板11,12を装着している。

Claim (excerpt)：

複数種類の成長用融液を収容する融液溜めが放射状に設けられた成長用融液ホルダーと、成長用融液を順次基板結晶列ホルダー内に供給するためのシャッター機能を有する蓋体の間に脱着可能な2枚の薄板を設置し、成長用融液ホルダーと蓋体が摩擦することを防止することを特徴とする多層エピタキシャル成長装置用融液供給装置。