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J-GLOBAL ID:200903049064876656

流動層ガス化方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人山田特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006277236
Publication number (International publication number):2008094928
Application date: Oct. 11, 2006
Publication date: Apr. 24, 2008
Summary:
【課題】有機物原料を高いガス化率でガス化して大量のガス化ガスを生成できるようにした流動層ガス化装置を提供する。【解決手段】有機物原料のガス化によって生成するチャーと流動媒体11とを流動層燃焼炉1で燃焼させて流動媒体11を加熱し、流動層燃焼炉1からの流動媒体11を分離器8により分離して流動層ガス化炉2に導入し、流動層ガス化炉2の流動層16に有機物原料Mを供給してガス化によりガス化ガス35を取り出し、ガス化によって生成したチャーと流動媒体11の一部を流動層燃焼炉1に循環する方法において、流動層ガス化炉2を第1室31と第2室32とで構成し、有機物原料Mを第1室31に供給し、第1室31において水分を蒸発除去した有機物原料を第2室32の流動層16内部に導入するようにし、第2室32において流動媒体11による混合加熱によってタールを分解しつつ有機物原料Mのガス化を行うようにする。【選択図】図1
Claim (excerpt):
有機物原料のガス化によって生成したチャーと流動媒体とを流動層燃焼炉に導入して高速流動させつつチャーを燃焼させて流動媒体を加熱し、 前記流動層燃焼炉からの流動媒体を分離器により分離して流動層ガス化炉に導入し流動層を形成し、流動層ガス化炉に供給した有機物原料をガス化してガス化ガスを取り出すと共に、有機物原料のガス化によって生成したチャーと流動媒体の一部を前記流動層燃焼炉に循環するようにしている流動層ガス化方法であって、 前記流動層ガス化炉を第1室と第2室とで構成し、有機物原料を第1室に供給し、第1室において水分が蒸発除去された有機物原料を前記第2室の流動層内部に導入するようにし、第2室において流動媒体との混合加熱によってタールを分解しつつ有機物原料のガス化を行うようにしたことを特徴とする流動層ガス化方法。
IPC (5):
C10J 3/00 ,  F23G 5/30 ,  F23C 10/02 ,  F23G 5/50 ,  F23G 5/027
FI (10):
C10J3/00 K ,  F23G5/30 A ,  F23G5/30 D ,  F23G5/30 E ,  F23C11/02 311 ,  F23G5/50 E ,  F23G5/50 H ,  F23G5/50 M ,  F23G5/50 P ,  F23G5/027 B
F-Term (51):
3K062AA11 ,  3K062AB01 ,  3K062AB02 ,  3K062AC17 ,  3K062BA02 ,  3K062CA01 ,  3K062CB03 ,  3K062CB08 ,  3K062DA01 ,  3K062DA08 ,  3K062DA11 ,  3K062DB05 ,  3K062DB16 ,  3K064AB03 ,  3K064AC06 ,  3K064AC07 ,  3K064AC12 ,  3K064AC13 ,  3K064AD05 ,  3K064AD08 ,  3K064AE02 ,  3K064AE06 ,  3K064AF01 ,  3K064BA03 ,  3K064BA07 ,  3K064BA17 ,  3K064BA22 ,  3K064BB01 ,  3K161AA04 ,  3K161CA03 ,  3K161DA53 ,  3K161EA41 ,  3K161FA01 ,  3K161FA23 ,  3K161FA32 ,  3K161FA33 ,  3K161FA36 ,  3K161FA46 ,  3K161FA69 ,  3K161HA55 ,  3K161HA60 ,  3K161HA64 ,  3K161HB02 ,  3K161HB03 ,  3K161HB05 ,  3K161HB14 ,  3K161LA03 ,  3K161LA15 ,  3K161LA17 ,  3K161LA33 ,  3K161LA38
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 流動層ガス化システム
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-201826   Applicant:石川島播磨重工業株式会社
Cited by examiner (4)
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