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J-GLOBAL ID：200903049071525591

光導波路の製造方法

Inventor： 荒川 富行
Applicant, Patent owner： 沖電気工業株式会社
Agent (1)： 清水 守 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997104526
Publication number (International publication number)：1998300962
Application date： Apr. 22, 1997
Publication date： Nov. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】 形成時間を短縮するとともに、形成時の熱の負荷を抑えて、シリコン基板の反りや歪み、変形が低減し、光の減衰及び光ファイバとの調芯を高精度に行うことができる光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】 シリコン基板11上に下部クラッド層となる酸化シリコンを主成分とするガラス板12及びコア層となる酸化シリコンを主成分とするガラス板13を順次積層する工程と、熱処理することにより、前記シリコン基板11、各ガラス板12,13間を貼り合わせる工程と、前記コア層となる酸化シリコンを主成分とするガラス板13を加工する工程と、上部クラッド層となる酸化シリコン膜15を堆積する工程とを順に施す。

Claim (excerpt)：

(a)シリコン基板上に下部クラッド層となる酸化シリコンを主成分とするガラス板及びコア層となる酸化シリコンを主成分とするガラス板を順次積層する工程と、(b)熱処理することにより、前記シリコン基板、各ガラス板間を貼り合わせる工程と、(c)前記コア層となる酸化シリコンを主成分とするガラス板を加工する工程と、(d)上部クラッド層となる酸化シリコン膜を堆積する工程とを順に施すことを特徴とする光導波路の製造方法。