非平面露光ビームリトグラフィーを用いてミクロ構造体を製作する方法及び装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：浅村皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992012968
Publication number (International publication number)：1994134586
Application date： Jan. 28, 1992
Publication date： May. 17, 1994
Summary：

【要約】【目的】露光ビームリトグラフィ技術を用いて被加工物の非平面処理を行う方法及び装置を提供する。【構成】真空室と、真空室内に配置され、加工位置にビームを指向する露光ビーム発生器例えば電子ビーム発生器と、真空室内に配置され、被加工物を加工位置に保持して位置決めするチャックと、真空室内に配置され、被加工物の様々の区域をビームに露光させるようにチャック従って被加工物を選択的に回転させるため第1の制御信号に応答する動力化された回転ステージと、真空室内に配置され、その上に回転ステージが取り付けられ、回転ステージの回転軸線に概ね平行の直線方向に回転ステージ従ってチャック及び被加工物を選択的に運動させるため第2の制御信号に応答する動力化された直線ステージと、回転ステージ及び直線ステージに第1及び第2の制御信号をそれぞれ供給し以てそれらを選択的に作動させるコントローラとを主たる構成要素として前記装置が構成されている。

Claim (excerpt)：

室と、露光ビームを発生させてそれを加工位置に指向するため前記室内に配置された手段と、被加工物を前記加工位置に保持して位置決めするため前記室内に配置されたチャックと、運動の第1の自由度を以て前記チャック、従って被加工物、を選択的に運動させそれにより被加工物の異なる区域を前記露光ビームに露光させるための第1の制御信号に応答する前記室内に配置された第1の手段と、運動の第2の自由度を以て前記チャック、従って被加工物、を選択的に運動させそれにより被加工物のさらにその他の区域を前記露光ビームに露光させるための第2の制御信号に応答する前記室内に配置された第2の手段と、前記第1の制御信号を発生させてそれを前記第1の手段に供給しそして前記第2の制御信号を発生させてそれを前記第2の手段に供給するための制御手段とを有する被加工物の非平面処理を行う装置。

IPC (5)：

B23K 26/00 , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027 , H01L 21/302

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭59-116602
特開昭64-013726
特開昭62-155517

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