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J-GLOBAL ID：200903049093781699

セルロース誘導体系化合物及び紫外線硬化性樹脂組成物並びにフォトソルダーレジストインク

Inventor： 田中 真紀 ,  橋本 壯一 ,  小田 俊和
Applicant, Patent owner： 互応化学工業株式会社
Agent (1)： 西川 惠清 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998031282
Publication number (International publication number)：1999228639
Application date： Feb. 13, 1998
Publication date： Aug. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 解像性、感度及び半田耐熱性等に優れ、また優れた基板密着性、耐薬品性、耐電蝕性及び電気特性並びに特に優れた半田耐熱性等を示すソルダーレジストを基板上に形成することができる希アルカリ水溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインクを調製することができるセルロース誘導体系化合物を提供する。【解決手段】 カルボキシル基を有するセルロース誘導体に、分子内に一つのエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体と飽和又は不飽和の多塩基酸無水物を反応させて生成されることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

カルボキシル基を有するセルロース誘導体に、分子内に一つのエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体と飽和又は不飽和の多塩基酸無水物を反応させて生成されることを特徴とするセルロース誘導体系化合物。

IPC (8)：

C08F251/02 ,  C08B 15/00 ,  C08F299/00 ,  C08G 59/40 ,  C09D 11/10 ,  G03F 7/027 511 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/038 503

FI (8)：

C08F251/02 ,  C08B 15/00 ,  C08F299/00 ,  C08G 59/40 ,  C09D 11/10 ,  G03F 7/027 511 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/038 503

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-085347
  
• 特開昭57-018704
  
• 特開昭60-166301
  
• 特開昭57-162702