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J-GLOBAL ID：200903049119430873

フォトマスクの製造方法

Inventor： 塩入 智美 ,  田邊 容由
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 岩佐 義幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994286265
Publication number (International publication number)：1996076360
Application date： Nov. 21, 1994
Publication date： Mar. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】 製造環境での使用に適し、多様なパターン形状の任意個所に対応し、計算量が少なく、高速な近接効果補正を施したフォトマスクの製造方法を提供する。【構成】 レジスト上に転写されるべき設計パターンの輪郭を分割することにより、その分割された個々の個所に対する補正パターンの幅を、代数方程式を解く計算を含むステップによって求める。一つの補正個所について、繰り返し計算を必要とせず、計算量の少ない高速な補正を加えることができる。また、補正前の設計パターンを用いた計算方法なので、フォトマスク上の任意パターンの任意の個所において、必要とされる補正量を算出することができる。

Claim (excerpt)：

フォトレジスト上に転写されるべき設計パターンの輪郭を線分に分割し、前記線分に沿って補正パターンを前記設計パターンに追加あるいは削除したパターンをフォトマスクパターンとして用いるフォトマスクの製造方法であって、前記補正パターンの長さは前記線分の長さとし、前記補正パターンの幅を、前記設計パターンおよび前記線分の長さより決定される数を係数とする代数方程式を解くことにより求めることを特徴とするフォトマスクの製造方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027