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J-GLOBAL ID:200903049162153247
走査型光学顕微鏡
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (7):
韮澤 弘
, 阿部 龍吉
, 蛭川 昌信
, 内田 亘彦
, 菅井 英雄
, 青木 健二
, 米澤 明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004108803
Publication number (International publication number):2005292538
Application date: Apr. 01, 2004
Publication date: Oct. 20, 2005
Summary:
【課題】 物体に集光する光軸方向の位置を変更しても結像性能の劣化が少ない波面変換素子を用いた走査型光学顕微鏡。【解決手段】 光源11から発する照明光に任意の波面変換を与える波面変換素子2と、波面変換素子2を制御する制御装置61と、波面変換素子2から発する波面変換後の照明光を互いに直交する方向に走査する光束走査手段3と、光束走査手段3によって進行方向を変えた照明光を物体に集光する対物レンズ4と、物体Oから発する信号光を検出する検出器53とを備えた走査型光学顕微鏡であって、制御装置61は、照明光の集光位置を変更するのに必要な波面変換素子2を変調するための制御データを備えており、その制御データに基づいて波面変換素子2を変調して照明光の集光位置を変更する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
光源と、前記光源から発する照明光に任意の波面変換を与える波面変換素子と、前記波面変換素子を制御する制御装置と、前記波面変換素子から発する波面変換後の照明光を互いに直交する方向に走査する光束走査手段と、前記光束走査手段によって進行方向を変えた照明光を物体に集光する対物レンズと、前記物体から発する信号光を検出する検出器とを備えた走査型光学顕微鏡において、
前記制御装置は、照明光の集光位置を変更するのに必要な前記波面変換素子を変調するための制御データを備えており、その制御データに基づいて前記波面変換素子を変調して照明光の集光位置を変更することを特徴とする走査型光学顕微鏡。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (14):
2H041AA23
, 2H041AB14
, 2H041AZ02
, 2H041AZ06
, 2H052AA07
, 2H052AB01
, 2H052AB06
, 2H052AC07
, 2H052AC15
, 2H052AC29
, 2H052AC34
, 2H052AF25
, 2H052BA02
, 2H052BA03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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顕微鏡におけるアダプティブ光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-214675
Applicant:カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
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集光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-292383
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
Cited by examiner (8)
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走査型光学顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-394934
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
顕微鏡におけるアダプティブ光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-214675
Applicant:カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
-
走査画像の補正方法、そのプログラム、及びレーザ走査型顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-211226
Applicant:オリンパス株式会社
-
集光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-292383
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-126020
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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試料照射装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-070538
Applicant:ライカマイクロシステムズハイデルベルクゲーエムベーハー
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情報エントロピーを用いた波面評価方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-110868
Applicant:株式会社筑波リエゾン研究所
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走査型レーザ顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-245594
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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