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J-GLOBAL ID：200903049181681408
磁気ディスク用アモルファスカーボン基板のテクスチャー処理方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
藤巻 正憲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993114925
Publication number (International publication number)：1994325359
Application date： May. 17, 1993
Publication date： Nov. 25, 1994
Summary：
【要約】【目的】 記録エラーの原因となるような表面の欠陥を生じさせることなく、また過剰酸化のような不都合を生じさせることなくアモルファスカーボン基板をテクスチャー処理することができる磁気ディスク用アモルファスカーボン基板のテクスチャー処理方法を提供する。【構成】 アモルファスカーボン基板を鏡面研磨した後、砥粒平均粒径1μm以上2.5μm以下の研磨テープにより前記アモルファスカーボン基板を研磨してテクスチャー処理する。
Claim (excerpt)：
アモルファスカーボン基板を研磨する工程と、次いで、砥粒平均粒径1μm以上2.5μm以下の研磨テープにより前記アモルファスカーボン基板を研磨する工程とを有することを特徴とする磁気ディスク用アモルファスカーボン基板のテクスチャー処理方法。
IPC (2)：
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