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J-GLOBAL ID:200903049208697670

シランモノマー及びポリマーを製造する方法及びそれを含むフォトレジスト組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 千田 稔 ,  辻永 和徳 ,  橋本 幸治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003054579
Publication number (International publication number):2004038143
Application date: Feb. 28, 2003
Publication date: Feb. 05, 2004
Summary:
【課題】新規なSi含有モノマー、斯かるモノマーを含有するポリマー及びそのポリマーを含有するフォトレジスト組成物の提供。【解決手段】ビニル炭素環式アリールエステル化合物をトリハロシラントリヒドロキシシラン,トリアルコキシシラン等の反応性シラン化合物と反応させてモノマーを生成する。該モノマーを,多反応性窒素部位を有する化合物の存在下で、重合しシロキサンポリマーを得る。該ポリマーは好ましくはフォト酸レイビル基を含む1以上の繰り返し単位を含む。該ポリマーとフォト活性成分と混合させることによりフォトレジスト組成物を生成する。【選択図】なし
Claim (excerpt):
a)ビニル炭素環式アリールエステル化合物とシラン化合物とを反応させてモノマーを生成し、該モノマーを重合させてシロキサンポリマーを提供し;及びb)該ポリマーとフォト活性成分を混合させることを含む、フォトレジスト組成物の調製方法。
IPC (5):
G03F7/075 ,  C08G77/14 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (6):
G03F7/075 511 ,  C08G77/14 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 573
F-Term (44):
2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB33 ,  2H025CC20 ,  2H025DA11 ,  2H025DA29 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA41 ,  2H096AA25 ,  2H096BA01 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096CA05 ,  2H096EA02 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096KA02 ,  4J246AA03 ,  4J246AB06 ,  4J246BA020 ,  4J246BA12X ,  4J246BA120 ,  4J246BB010 ,  4J246BB012 ,  4J246CA270 ,  4J246CA39M ,  4J246CA53M ,  4J246CA64X ,  4J246CA640 ,  4J246CA99M ,  4J246FA061 ,  4J246FA121 ,  4J246FA151 ,  4J246FA171 ,  4J246GB04 ,  4J246GD08 ,  4J246HA15 ,  5F046NA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (22)
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