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J-GLOBAL ID:200903049208697670
シランモノマー及びポリマーを製造する方法及びそれを含むフォトレジスト組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
千田 稔
, 辻永 和徳
, 橋本 幸治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003054579
Publication number (International publication number):2004038143
Application date: Feb. 28, 2003
Publication date: Feb. 05, 2004
Summary:
【課題】新規なSi含有モノマー、斯かるモノマーを含有するポリマー及びそのポリマーを含有するフォトレジスト組成物の提供。【解決手段】ビニル炭素環式アリールエステル化合物をトリハロシラントリヒドロキシシラン,トリアルコキシシラン等の反応性シラン化合物と反応させてモノマーを生成する。該モノマーを,多反応性窒素部位を有する化合物の存在下で、重合しシロキサンポリマーを得る。該ポリマーは好ましくはフォト酸レイビル基を含む1以上の繰り返し単位を含む。該ポリマーとフォト活性成分と混合させることによりフォトレジスト組成物を生成する。【選択図】なし
Claim (excerpt):
a)ビニル炭素環式アリールエステル化合物とシラン化合物とを反応させてモノマーを生成し、該モノマーを重合させてシロキサンポリマーを提供し;及びb)該ポリマーとフォト活性成分を混合させることを含む、フォトレジスト組成物の調製方法。
IPC (5):
G03F7/075
, C08G77/14
, G03F7/038
, G03F7/039
, H01L21/027
FI (6):
G03F7/075 511
, C08G77/14
, G03F7/038 601
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
, H01L21/30 573
F-Term (44):
2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CB33
, 2H025CC20
, 2H025DA11
, 2H025DA29
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 2H025FA41
, 2H096AA25
, 2H096BA01
, 2H096BA11
, 2H096BA20
, 2H096CA05
, 2H096EA02
, 2H096FA01
, 2H096GA08
, 2H096KA02
, 4J246AA03
, 4J246AB06
, 4J246BA020
, 4J246BA12X
, 4J246BA120
, 4J246BB010
, 4J246BB012
, 4J246CA270
, 4J246CA39M
, 4J246CA53M
, 4J246CA64X
, 4J246CA640
, 4J246CA99M
, 4J246FA061
, 4J246FA121
, 4J246FA151
, 4J246FA171
, 4J246GB04
, 4J246GD08
, 4J246HA15
, 5F046NA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (22)
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ラダーポリシロキサンおよびその製造方法
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Application number:特願平7-018730
Applicant:株式会社関西新技術研究所
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-093776
Applicant:東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
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ポリオルガノシロキサンの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-005251
Applicant:鐘淵化学工業株式会社
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硬化性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-295573
Applicant:鐘淵化学工業株式会社
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シリコーン流体の製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-353663
Applicant:ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
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特開平2-107638
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塗料用組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-283955
Applicant:昭和電工株式会社
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新規高分子シリコーン化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-058946
Applicant:信越化学工業株式会社
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特開平2-117681
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スチレン誘導体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-300493
Applicant:本州化学工業株式会社, 大阪市
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電子写真感光体およびその製造方法並びに電子写真装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-336195
Applicant:富士ゼロックス株式会社
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フェノールにより改質されたシリコーン
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-110846
Applicant:ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
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特開昭63-241542
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ポリシロキサンを製造する方法及びそれを含むフォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-054512
Applicant:シップレーカンパニーエルエルシー
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アルコキシシリル基またはシロキサン部分を有する桂皮酸エステル類およびα-メチル桂皮酸エステル類の製造方法
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Application number:特願2000-246643
Applicant:信越化学工業株式会社
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シリコン含有レジスト組成物およびその使用
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-023822
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション
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共重合ポリシロキサンおよび感放射線性樹脂組成物
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Application number:特願2000-107207
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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Application number:特願2001-111786
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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Application number:特願2002-095177
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Application number:特願2000-385247
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Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-513952
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Application number:特願2001-586209
Applicant:サン-ゴバンベトロテックスフランスソシエテアノニム
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