Pat
J-GLOBAL ID：200903049212937473

セミフィニッシュレンズの製造方法、セミフィニッシュレンズおよびプラスティックレンズの製造方法

Inventor：
山本 明典

About 山本 明典

, 
井原 正樹

About 井原 正樹

, 
齋藤 徹

About 齋藤 徹


Applicant, Patent owner：
セイコーエプソン株式会社

About セイコーエプソン株式会社


Agent (3)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007289323
Publication number (International publication number)：2009113353
Application date： Nov. 07, 2007
Publication date： May. 28, 2009
Summary：
【課題】熱可塑性を有する樹脂材料で形成され、形状精度に優れた第1面を有するセミフィニッシュレンズの製造方法、セミフィニッシュレンズ、このセミフィニッシュレンズを原料とし、第2面が所望の形状に加工されたプラスティックレンズの製造方法を提供する。【解決手段】光学的に仕上げられた第1面1Aと、後加工される第2面1Bと、を有するセミフィニッシュレンズ1の製造方法であって、片面が光学的に仕上げられた光学面10Aとされている光学基材10を得る基材形成工程と、光学基材10から型を外す離型工程と、光学基材10の光学面10Aに、光学基材10のガラス転移点以下の温度で硬化するコーティング層2を設けるコーティング層形成工程と、光学基材10を、光学基材10のガラス転移点以上の温度で加熱するアニール工程と、を備える。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
光学的に仕上げられた第1面と、所望の形状に後加工される第2面と、を有するセミフィニッシュレンズの製造方法であって、 型の内部に基材組成物を注入した後、前記基材組成物を重合させ、片面が光学的に仕上げられた光学面とされている光学基材を得る基材形成工程と、 前記基材形成工程で得られた前記光学基材から前記型を外す離型工程と、 前記型から外された前記光学基材の前記光学面に、前記光学基材のガラス転移点以下の温度で硬化するコーティング材料を塗布した後、前記コーティング材料を硬化させてコーティング層を形成するコーティング層形成工程と、 前記コーティング層が形成された前記光学基材を、前記光学基材のガラス転移点以上の温度で加熱するアニール工程と、 を備え、 TMA(Thermomechanical Analyzer)を用い、荷重50g、直径1mmの針入プローブ、初期温度25°C、昇温スピード10°C/minの条件で、前記光学基材の熱機械分析を実施した場合において、前記光学基材のガラス転移点+10°Cの測定温度における前記光学基材の厚みの変化量は、前記初期温度における前記光学基材の厚みの10%以上である ことを特徴とするセミフィニッシュレンズの製造方法。
IPC (4)：
B29D 11/00 ,  B29C 71/02 ,  G02C 7/00 ,  G02B 3/00
FI (4)：
B29D11/00 ,  B29C71/02 ,  G02C7/00 ,  G02B3/00 Z
F-Term (24)：
2H006BA01 ,  2H006BA03 ,  4F201AF14 ,  4F201AG03 ,  4F201AH74 ,  4F201AM32 ,  4F201BA07 ,  4F201BC01 ,  4F201BC02 ,  4F201BC12 ,  4F201BC21 ,  4F201BD01 ,  4F201BR08 ,  4F201BR50 ,  4F213AA34 ,  4F213AG03 ,  4F213AH73 ,  4F213AR12 ,  4F213WA02 ,  4F213WA54 ,  4F213WA58 ,  4F213WA74 ,  4F213WA83 ,  4F213WB01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (1)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM