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J-GLOBAL ID:200903049239222514

半導体レーザ素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993301290
Publication number (International publication number):1995131116
Application date: Nov. 05, 1993
Publication date: May. 19, 1995
Summary:
【要約】【目的】 レーザ特性を向上させた埋め込み型の半導体レーザ素子を提供する。【構成】 ストライプ状に形成され、少なくとも活性層13を含むメサ部分と、該メサ部分の両側を埋め込む、n型InP層12とp型ドーパントを含むp型InP層14で挟まれたFeを含む半絶縁性InP電流阻止層16とを備えた埋め込み型の半導体レーザ素子において、半絶縁性InP電流阻止層16とそれを挟む二つのInP層の一方のp型InP層14との間にノンドープまたはn型のGaInAs(P)層17を挿入する。
Claim (excerpt):
ストライプ状に形成され、少なくとも活性層を含むメサ部分と、該メサ部分の両側を埋め込む、n型InP層とp型ドーパントを含むp型InP層で挟まれたFeを含む半絶縁性InP電流阻止層とを備えた埋め込み型の半導体レーザ素子において、半絶縁性InP電流阻止層とそれを挟む二つのInP層の一方のp型InP層との間にノンドープまたはn型のGaInAs(P)層が挿入されてなることを特徴とする半導体レーザ素子。

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