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J-GLOBAL ID：200903049287164399

ポジ型感光性組成物

Inventor： 佐藤 健一郎 ,  川村 浩一 ,  坂口 新治
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995069586
Publication number (International publication number)：1996044055
Application date： Mar. 28, 1995
Publication date： Feb. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】 (1)感度が高くかつ現像ラチチュードの良い平版印刷版用感光性組成物、及び(2)高感度で高解像力である超微細加工用ポジ型フォトレジスト組成物を提供することを目的とする。【構成】 キノンジアジド構造及びこのキノンジアジド構造と独立したN-スルホニルアミド〔-C(=O)-NHSO2 -〕構造を同一分子内に含む、また、キノンジアジド構造及びこのキノンジアジド構造と独立したスルホンアミド〔-NHSO2 -〕構造を同一分子内に含む、特定の構造式を有するキノンジアジドエステル化合物を含有する。

Claim (excerpt)：

少なくとも1個以上のキノンジアジド構造及びこのキノンジアジド構造と独立した少なくとも1個以上のN-スルホニルアミド〔-C(=O)-NHSO2 -〕構造を同一分子内に含む下記一般式〔I〕で表されるキノンジアジドエステル化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】一般式〔I〕において、L1およびL2はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい非金属原子からなる多価の連結基を表す。Q1およびQ2はそれぞれ独立して水素原子またはキノンジアジド構造を表し、m1およびm2はそれぞれ独立して1〜15の整数を表す。但し、Q1およびQ2の少なくとも1つはキノンジアジド構造を表す。

IPC (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/00 503 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 特開平4-022955
  
• 特開平3-058049
  
• 特開昭63-214747
  
• 特開平4-274431
  

Cited by examiner (4)

• 特開平4-022955
  
• 特開平3-058049
  
• 特開昭63-214747
  
• 特開平4-274431