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J-GLOBAL ID：200903049288221353

最密充填塗膜、その製造方法及び最密充填塗膜形成フィルム

Inventor： 中村 典永 ,  山下 夏子 ,  岡 素裕
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 光来出 良彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993353480
Publication number (International publication number)：1995198904
Application date： Dec. 28, 1993
Publication date： Aug. 01, 1995
Summary：

【要約】【目的】 簡単な方法で、超微粒子を基板上に一層だけ高密度に規則正しく配列させた最密充填塗膜、特に、反射防止膜に適した塗膜を形成する方法を提供する。【構成】 シリカ粒子と、該シリカ粒子の粒径より小さな粒径を持つコロイダルシリカとの混合物を主体とした分散液を用いて塗膜を形成することにより、基材表面に一層だけ高密度に規則正しくシリカ粒子を配列させる。前記分散液中に、樹脂バインダーを添加してもよい。このような最密充填塗膜とすることにより、空気と接する表層から基板に向けて屈折率が段階的に緩やかに増大するので、光の反射防止効果が生ずる。

Claim (excerpt)：

シリカ粒子と、該シリカ粒子の粒径より小さな粒径を持つコロイダルシリカとの混合物により形成された該シリカ粒子の粒径と同じ程度の膜厚を持ち、該シリカ粒子が高密度に規則正しく一層だけ配列している最密充填塗膜。

IPC (5)：

G02B 1/11 ,  B05D 5/06 ,  B05D 7/04 ,  B05D 7/24 303 ,  B32B 27/36