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J-GLOBAL ID：200903049314915202

石英系光導波路の製造方法

Inventor： 後藤 純二郎
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992181414
Publication number (International publication number)：1994027341
Application date： Jul. 09, 1992
Publication date： Feb. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 石英系光導波路の製造方法に関し、伝送損失が小さく、また、光導波路デバイスの特性が良好な石英系光導波路の製造方法を提供することを目的とする。【構成】 アンダクラッド層2の上層に形成したコア層3をコアパターン5とする反応性イオンエッチング工程と、コアパターン5の側面及び上部にオーバクラッド用ガラススート層4Aを設ける工程との間に、アンダクラッド層2の表面を、所望量除去する化学エッチング工程を挿入する構成とする。

Claim (excerpt)：

アンダクラッド層(2) の上層に形成したコア層(3) をコアパターン(5) とする反応性イオンエッチング工程と、該コアパターン(5) の側面及び上部にオーバクラッド用ガラススート層(4A)を設ける工程との間に、該アンダクラッド層(2) の表面を、所望量除去する化学エッチング工程を挿入したことを特徴とする石英系光導波路の製造方法。

IPC (2)：

G02B 6/12 ,  C03B 20/00