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J-GLOBAL ID：200903049341508791

光導波路の形成方法及び光導波路構造体

Inventor： 赤池 正剛
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 加藤 一男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999299291
Publication number (International publication number)：2001116945
Application date： Oct. 21, 1999
Publication date： Apr. 27, 2001
Summary：

【要約】【課題】平面内での光導波路として有用であると共に、ほぼ垂直方向への光の偏向も柔軟な設計で容易に実現できる構成を持つ光導波路構造体及びこうした光導波路の形成法である。【解決手段】全面にクラッド層15が成膜された溝部を持つ第1基板1を形成し、溝部を除いて第1基板1に接合部を形成し、クラッド層15、16よりも屈折率の高いコア材料17を溝部内に充填し、第1基板1と所定の関係で相対向した時に溝部と相対向する個所にクラッド層16を持ち、クラッド層16を除いた領域に接合部を持つ第2の基板2を形成し、第1基板1及び第2基板2を、所定の関係で互いに相対向し、両基板1、2の両側から圧力を印加して接合する。この様な工程により、クラッド層14、15、16で囲まれたトンネル状の光導波路が形成される。

Claim (excerpt)：

光導波路を形成する方法であって、全面にクラッド層が成膜された溝部を持つ第1基板を形成する第1工程、溝部を除いて第1基板に接合部を形成する第2工程、クラッド層よりも屈折率の高いコア材料を該溝部内に充填する第3工程、第1基板と所定の関係で相対向した時に該溝部と相対向する個所にクラッド層を持ち、該クラッド層を除いた領域に接合部を持つ第2の基板を形成する第4工程、第1基板及び第2基板を、所定の関係で互いに相対向し、両基板の両側から圧力を印加して接合する第5工程、以上の工程を有することを特徴とする光導波路の形成方法。

IPC (3)：

G02B 6/13 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/122

FI (3)：

G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 A

F-Term (7)：

2H047KA03 ,  2H047MA07 ,  2H047PA24 ,  2H047QA01 ,  2H047QA04 ,  2H047QA05 ,  2H047TA43