Pat

J-GLOBAL ID：200903049377168946

薄膜形成用プラズマ成膜装置

Inventor： 酒井 道 ,  岡本 諭 ,  赤井 敏男
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 住吉 多喜男 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001009963
Publication number (International publication number)：2001338885
Application date： Jan. 18, 2001
Publication date： Dec. 07, 2001
Summary：

【要約】【課題】 大面積成膜基板への均一かつ高品質の成膜を可能とする薄膜形成用プラズマ成膜装置を提供する。【解決手段】 電極基板11上に設けた電極13と、該電極13の間に設けた材料ガスGを内部に導入するガス導入孔12と、電極13の所定の距離d隔てて対向して設けた成膜基板30と、エネルギー供給により前記材料ガスをプラズマ状態にする電源60とを有し、前記材料ガスGを活性種Rに分解して成膜基板30に堆積させ成膜するようにした薄膜形成用プラズマ成膜装置1であって、隣接する電極13間に電圧を印加して、放電DCを生起するようにした。

Claim (excerpt)：

材料ガスを内部に導入する機能と、電気的エネルギー供給により該材料ガスをプラズマ状態にする機能と、該材料ガスを活性種に分解する機能と、該活性種を成膜基板に堆積させ成膜する機能とを有する薄膜形成用プラズマ成膜装置であって、成膜基板とは離れた位置にあり、かつ、成膜基板面と平行な露出面を持つ、複数の電極を備え、該電極間に電圧を印加することにより電気的エネルギー供給を行なう薄膜形成用プラズマ成膜装置。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/503

FI (2)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/503

F-Term (27)：

4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030AA14 ,  4K030AA16 ,  4K030BA30 ,  4K030CA06 ,  4K030CA17 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030FA01 ,  4K030JA02 ,  4K030JA11 ,  4K030KA15 ,  4K030KA17 ,  4K030KA47 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AD06 ,  5F045BB02 ,  5F045BB16 ,  5F045DP05 ,  5F045EH04 ,  5F045EH07 ,  5F045EH08 ,  5F045EH09 ,  5F045EH14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• プラズマ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-363082   Applicant：田中栄
• 特開平2-111881