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J-GLOBAL ID：200903049378790799

高分子材料の表面処理方法

Inventor： 二宮 利幸 ,  伊藤 徹男 ,  安田 健二
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993117831
Publication number (International publication number)：1994306199
Application date： Apr. 21, 1993
Publication date： Nov. 01, 1994
Summary：

【要約】【目的】 高分子材料本来の機械的強度や柔軟性、耐熱性などの性能を損なうことなく、恒久的な親水性を持った抗血栓性材料として好適に用いられる高分子材料の表面処理方法を提供する。【構成】 放射線照射または低温プラズマ処理した高分子材料の表面に、2個以上の水酸基を有する構造単位および/または下記一般式(1)【化1】[但し、nは1〜100の整数を表す]で表される構造単位を形成することを特徴とする高分子材料の表面処理方法。

Claim (excerpt)：

放射線照射または低温プラズマ処理した高分子材料の表面に、2個以上の水酸基を有する構造単位および/または下記一般式(1)【化1】[但し、R1は水素原子またはメチル基を表し、nは1〜100の整数を表す]で表される構造単位を形成することを特徴とする高分子材料の表面処理方法。

IPC (4)：

C08J 7/16 ,  A61L 33/00 ,  C08J 7/00 305 ,  C08J 7/00 306

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特表平4-501882