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J-GLOBAL ID：200903049401061236
スペーサ技術を用いるナノサイズインプリント用スタンプ
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
後藤 政喜
, 松田 嘉夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003018275
Publication number (International publication number)：2004006643
Application date： Jan. 28, 2003
Publication date： Jan. 08, 2004
Summary：
【課題】大きな領域上に複雑なパターンおよび形状を形成することができるナノサイズのインプリント用スタンプを提供する。【解決手段】利用可能なベース表面13を有する基板11と、前記ベース表面13と接触し、そこから外側に延在する複数のインプリントスタンプ20は、所定の形状を有し、相対する側面22a、22bを有する微小機構21と、前記相対する側面22a、22bから横方向外側に延在する複数のスペーサ23と、を備え、前記微小機構21および前記スペーサ23は前記ベース表面13から外側に延在し、また前記微小機構21および前記スペーサ23は、インプリントプロファイル24を画定するために、前記微小機構21および前記スペーサ23の間で異なる高さh1、h2および幅を有する。【選択図】図11
Claim (excerpt)：
ワイドエリア・ナノサイズインプリント用スタンプ(10)において、
利用可能な領域(AU)を有するベース表面(13)を有する基板(11)と、
相互に離隔されて前記利用可能な領域(AU)の概ね全てを占有するように配置され、前記ベース表面(13)と接触し、そこから外側に延在する複数のインプリントスタンプ(20)と、
前記各インプリントスタンプ(20)は所定の形状を有し、相対する側面(22a、22b)を有する微小機構(21)と、前記相対する側面(22a、22b)から横方向外側に延在する複数のスペーサ(23)と、を備え、
前記微小機構(21)および前記スペーサ(23)は前記ベース表面(13)から外側に延在し、また前記微小機構(21)および前記スペーサ(23)は、インプリントプロファイル(24)を画定するために、前記微小機構(21)および前記スペーサ(23)の間で異なる高さ(h1、h2)および幅を有する、
ことを特徴とするワイドエリア・ナノサイズインプリント用スタンプ。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L21/30 502D
, B82B3/00
