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J-GLOBAL ID：200903049408867341

ハイパーブランチポリマー及びその製造方法、並びに該ハイパーブランチポリマーを含有するレジスト組成物

Inventor： 金子 行裕 ,  鈴木 薫 ,  田村 実 ,  久保 善靖
Applicant, Patent owner： ライオン株式会社
Agent (1)： 酒井 昭徳
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2004019689
Publication number (International publication number)：WO2005061566
Application date： Dec. 22, 2004
Publication date： Jul. 07, 2005
Summary：

本発明により、光リソグラフィを中心としたナノファブリケーションのための高分子素材として好適なハイパーブランチポリマーを提供する。本発明のハイパーブランチポリマーは、クロロメチルスチレン等のリビングラジカル重合により形成されるコア部に結合した、p-tert-ブトキシスチレン等の酸分解性基をポリマー分子末端に有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

ポリマー分子末端に酸分解性基を有することを特徴とするハイパーブランチポリマー。

IPC (3)：

C08G 61/00 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (3)：

C08G61/00 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (20)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB54 ,  4J032CA04 ,  4J032CB01 ,  4J032CB03 ,  4J032CD02 ,  4J032CE03