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J-GLOBAL ID：200903049421850121

軟磁性薄膜及びそれを用いた磁気記録装置

Inventor： 桐野 文良 ,  大友 茂一 ,  小礒 良嗣
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994241040
Publication number (International publication number)：1996107036
Application date： Oct. 05, 1994
Publication date： Apr. 23, 1996
Summary：

【要約】【目的】磁気ヘッド用材料である微結晶析出型軟磁性膜の結晶粒子サイズ及びその分布を小さく抑制する。【構成】熱処理を行うことにより軟磁気特性が発現する磁性膜用の材料とし、Fe或いはCoを主体とし、これにTa,Zr,Hf、或いはNbの内から選ばれる少なくとも1種類を5at%から20at%の濃度範囲で、Si,B,C,Nの内から選ばれる少なくとも1種類の元素を1at%から20at%の濃度範囲で含む合金からなり、さらに、この磁性膜において磁性元素以外にAl,Ti,Cr,Ru,Rh,Pt,Pd,Mo,Wの内から選ばれる少なくとも1種類の元素を1at%以上で20at%以下の濃度で添加する。【効果】高飽和磁束密度及び良好な軟磁気特性を維持したままで磁性膜の耐熱性や耐食性が向上する。

Claim (excerpt)：

基板上に非晶質の磁性薄膜を形成し、その磁性膜を一定温度以上で熱処理して結晶化させることにより、軟磁気特性及び飽和磁束密度を発現させる軟磁性薄膜において、結晶化後の結晶粒子サイズ分布が、同一結晶相において平均粒子サイズ±3nm以下の範囲にあることを特徴とする軟磁性薄膜。

IPC (6)：

H01F 41/18 ,  C23C 14/00 ,  G11B 5/127 ,  G11B 5/23 ,  H01F 10/14 ,  H01F 10/16