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J-GLOBAL ID:200903049424429567
表面の異常および/または特徴を検出するためのシステム
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
井ノ口 壽
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000505506
Publication number (International publication number):2001512237
Application date: Jul. 28, 1998
Publication date: Aug. 21, 2001
Summary:
【要約】【解決手段】 円柱ミラーまたは円柱レンズを用いて、入射する平行化された光ビームを被検査表面上の線に集束させ、この線は集束ビームの入射面に実質的存在するものである。ビームの像が表面の異常および/または特徴を検出するために線に平行な電荷結合素子のアレイに投影され、このアレイは集束ビームの入射面の外側に存在するものである。
Claim (excerpt):
表面の異常および/または特徴を検出するための方法であって、表面上の線を照明させるために斜角の入射角で放射ビームを集束させ、前記ビームおよびビームを通り表面に垂直な方向はビームの入射面を規定し、前記線はビームの入射面に実質的に存在する放射ビームの集束ステップと、アレイにある各検出器が線の対応部分からの光を検出する検出器のアレイに前記線を像映するステップとからなる表面の異常および/または特徴を検出するための方法。
IPC (4):
G01N 21/94
, G01B 11/30
, G01N 21/956
, H01L 21/66
FI (4):
G01N 21/94
, G01B 11/30 A
, G01N 21/956 A
, H01L 21/66 J
F-Term (40):
2F065AA49
, 2F065BB03
, 2F065CC19
, 2F065DD04
, 2F065FF44
, 2F065FF48
, 2F065GG05
, 2F065HH05
, 2F065HH12
, 2F065JJ01
, 2F065JJ09
, 2F065JJ25
, 2F065LL04
, 2F065LL08
, 2F065LL19
, 2F065LL42
, 2F065MM02
, 2F065MM04
, 2F065PP12
, 2F065PP13
, 2G051AA51
, 2G051AB01
, 2G051BA10
, 2G051BB09
, 2G051BB11
, 2G051CA03
, 2G051CB05
, 2G051DA08
, 4M106AA01
, 4M106BA05
, 4M106CA39
, 4M106CA41
, 4M106DB04
, 4M106DB08
, 4M106DB12
, 4M106DB13
, 4M106DB14
, 4M106DB15
, 4M106DB30
, 4M106DJ06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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表面状態検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-143627
Applicant:キヤノン株式会社
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表面欠陥検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-213088
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
特許第2512059号
-
異物検査装置およびその方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-110190
Applicant:株式会社日立製作所, 株式会社日立画像情報システム
-
特開昭56-030630
-
半導体製造ラインにおける鏡面基板の検査方法およびその装置並びに半導体製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-345889
Applicant:株式会社日立製作所
-
ウエハの異物検出受光系
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-132519
Applicant:日立電子エンジニアリング株式会社, 株式会社日立製作所
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