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J-GLOBAL ID：200903049427080387

機能性塗膜等の形成方法

Inventor： 宮崎 進 ,  中野 強 ,  岡田 良克 ,  安川 淳一 ,  松村 美紀 ,  津枝 和夫
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社 ,  神東塗料株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993231370
Publication number (International publication number)：1995084119
Application date： Sep. 17, 1993
Publication date： Mar. 31, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】導電性回路上に精度良く形成してなる機能性塗膜等を有する基板を製造する方法を提供する。【構成】上記導電性回路を有する透明基板全面に、ポジ型またはネガ型フォトレジストを塗布して、塗膜を形成し、その表面に、次の現像工程において、枠部以外を覆う塗膜を与えるようなパターンを有するマスクを重ねて、光線を照射、現像、熱処理し、得られた透明基板全面に機能性付与添加剤を含有するネガ型フォトレジストを塗布して、塗膜を形成し、透明基板の背面より露光する工程、塗膜の未硬化部分を除去する現像工程、熱処理された塗膜のみを除去する工程、以上の工程を経て得られた透明基板に、その導電性回路上に位置する複数の窓部に電着塗膜を形成する工程、を上記の順に行なうことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

複数の導電性回路を表面に有する透明基板上に、その導電性回路上に位置する複数の窓部の塗膜、およびその窓部以外の部分を埋める枠部の機能性塗膜を形成してなる機能性塗膜等を有する基板を製造する方法において、(a)上記導電性回路を有する透明基板全面に、ポジ型またはネガ型フォトレジストを塗布して、塗膜を形成する工程、(b)形成されたポジ型またはネガ型フォトレジスト塗膜の表面に、次の現像工程において、枠部以外を覆う塗膜を与えるようなパターンを有するマスクを重ねて、光線を照射する露光工程、(c)枠部の塗膜を除去する現像工程、(d)現像工程で残った塗膜を熱処理する工程、(e)以上の工程を経て得られた透明基板全面に機能性付与添加剤を含有するネガ型フォトレジストを塗布して、塗膜を形成する工程、(f)透明基板の背面より露光する工程、(g)下地に上記(d)工程で形成された塗膜が存在するために十分露光されなかった、(e)工程で形成された塗膜の未硬化部分を除去する現像工程、(h)上記(d)工程で熱処理された塗膜のみを除去する工程、(i)以上の工程を経て得られた透明基板に、その導電性回路を一方の電極として使用し電着塗装を行なうことにより、その導電性回路上に位置する複数の窓部に電着塗膜を形成する工程、を上記の順に行なうことを特徴とする方法。

IPC (2)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505