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J-GLOBAL ID：200903049439343570
レーザ加工装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高野 明近 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995226780
Publication number (International publication number)：1997066383
Application date： Sep. 04, 1995
Publication date： Mar. 11, 1997
Summary：
【要約】【課題】 生産性を落とすことなく、加工バリエーションが広く、必要以上の空間を必要としない、安価なレーザ加工装置を提供する。【解決手段】 レーザ光源から発せられたレーザ光が垂直に入射するように配設されたマスク10と、該マスク10上のパターンP1,P2...を試料面上に結像させる結像レンズ2と、前記試料を保持し少なくともレーザ光軸に平行及び垂直な方向に移動可能な試料台3とからなる。マスク10はレーザ光軸に対して偏心した状態で回転かつ位置決め可能であり、かつ、同一円周Q上に、該円周Q上の点を中心として複数のパターンP1,P2...が形成されており、マスク10を回転して、該パターンP1,P2...を切り換えて試料を加工する。
Claim (excerpt)：
レーザ光源から発せられたレーザ光が垂直に入射するように配設されたマスクと、該マスクに形成されたパターンを試料面上に結像させる結像レンズと、前記試料を保持し少なくともレーザ光軸に平行及び垂直な方向に移動可能な試料台とから構成されるレーザ加工装置において、前記マスクがレーザ光軸に対して偏心した状態で回転かつ位置決め可能であり、かつ、同一円周上に、該円周上の点を中心とする複数のパターンが形成されていることを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (2)：
FI (2)：
B23K 26/06 J
, B23K 26/00 A
