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J-GLOBAL ID：200903049485966840
ホトリソグラフイーのハレーシヨン防止方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
船橋 国則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991228888
Publication number (International publication number)：1993047658
Application date： Aug. 13, 1991
Publication date： Feb. 26, 1993
Summary：
【要約】【目的】 本発明は、パターンの表面状態や形状に影響されることなく、反射防止膜で入射光を減衰させてハレーションを防止し、レジスト膜の解像度を向上させて高精度なレジストパターンを形成することを可能にする。【構成】 第1の工程で、基板11上のパターン12を覆う状態に層間膜13を形成する。次いで第2の工程で、層間膜13の上面に反射防止膜14を形成する。続いて第3の工程で、反射防止膜14の上面にレジスト膜15を形成し、その後当該レジスト膜15に感光処理を行う。
Claim (excerpt)：
基板上のパターンを覆う状態に層間膜を成膜する第1の工程と、前記層間膜の上面に反射防止膜を成膜する第2の工程と、前記反射防止膜の上面にレジスト膜を成膜した後、当該レジスト膜に感光処理を行う第3の工程とよりなることを特徴とするホトリソグラフィーのハレーション防止方法。
IPC (2)：
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