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J-GLOBAL ID:200903049500135985
汚染水中のヒ素除去法およびヒ素除去処理剤
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
植木 久一
, 菅河 忠志
, 二口 治
, 伊藤 浩彰
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006039735
Publication number (International publication number):2006312163
Application date: Feb. 16, 2006
Publication date: Nov. 16, 2006
Summary:
【課題】アトマイズ法などによって製造される高密度で安価な鉄を主たる構成素材として利用し、被処理水中に含まれるヒ素を効率よく安価に除去することのできる方法とヒ素除去処理剤を提供すること。【解決手段】ヒ素に汚染された水中のヒ素を除去する方法であって、S含量が0.05〜5質量%である鉄粉、またはS含量が0.05〜5質量%で且つMn含量が0.1〜10質量%である鉄粉を使用し、その表面に形成される鉄の酸化物および/または水酸化物に、水中のヒ素を吸着させて除去する。鉄粉としては、アトマイズ法によって製造される高密度の鉄粉が好ましい。【選択図】なし
Claim (excerpt):
ヒ素に汚染された水中のヒ素を除去する方法であって、S含量が0.05〜5質量%である鉄粉の表面に形成される鉄の酸化物および/または水酸化物に、水中のヒ素を吸着させて除去することを特徴とする汚染水中のヒ素の除去法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (22):
4D024AA04
, 4D024AB17
, 4D024BA14
, 4D024BB01
, 4D024BC01
, 4D024BC04
, 4D024BC05
, 4D024CA01
, 4D024DA07
, 4D024DB01
, 4G066AA02A
, 4G066AA02C
, 4G066AA07D
, 4G066AA26D
, 4G066AA27B
, 4G066AA46D
, 4G066BA09
, 4G066CA46
, 4G066DA08
, 4G066EA13
, 4G066FA37
, 4G066FA40
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (4)