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J-GLOBAL ID:200903049528154543
集積回路素子の容量を増加させる方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
伊東 忠彦 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002181128
Publication number (International publication number):2003168745
Application date: Jun. 21, 2002
Publication date: Jun. 13, 2003
Summary:
【要約】【課題】 ナノチューブを用いた集積回路素子の容量を増加させる方法を提供し、プロセスの簡便化および製造コストの引き下げを図る。【解決手段】 基板上に触媒領域をパターニングするステップと、触媒領域上にナノチューブまたはナノワイヤー或いはナノベルトを形成するステップと、ナノチューブまたはナノワイヤー或いはナノベルトおよび基板上に第1誘電層を形成するステップと、第1誘電層上に電極層を形成するステップと、からなる。この方法によれば、コンデンサ電極の領域としてナノチューブまたはナノワイヤー或いはナノベルトを用いているため、コンデンサ電極の底面積自体を広げることなく容量を増加させることができる。
Claim (excerpt):
集積回路素子の容量を増加させる方法であって、基板上に触媒領域をパターニングするステップと、前記触媒領域上にナノチューブまたはナノワイヤー或いはナノベルトを形成するステップと、前記ナノチューブまたはナノワイヤー或いはナノベルト、および前記基板上に第1誘電層を形成するステップと、前記第1誘電層上に電極層を形成するステップとを含む方法。
IPC (3):
H01L 21/8242
, B82B 1/00 ZNM
, H01L 27/108
FI (3):
B82B 1/00 ZNM
, H01L 27/10 621 B
, H01L 27/10 661
F-Term (6):
5F083AD21
, 5F083AD42
, 5F083AD61
, 5F083GA09
, 5F083JA60
, 5F083PR21
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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ナノスケールワイヤ及び関連デバイス
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2003-511316
Applicant:プレジデント・アンド・フェロウズ・オブ・ハーバード・カレッジ, ユニバーシティ・オブ・サザンプトン
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誘電体素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-191416
Applicant:三洋電機株式会社
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不揮発性メモリを用いた光-電気変換装置、およびこれを利用した画像装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-281946
Applicant:ローム株式会社
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集積回路装置及び集積回路装置製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-135322
Applicant:富士通株式会社
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基体上に接合して規則化配列したナノ構造体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-265291
Applicant:独立行政法人物質・材料研究機構
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光電子集積回路装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-337766
Applicant:富士通株式会社
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