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J-GLOBAL ID：200903049531999090

流体の光化学反応処理方法

Inventor： 中野 浩二 ,  山越 裕司
Applicant, Patent owner： 株式会社日本フォトサイエンス
Agent (1)： 高橋 章
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991348505
Publication number (International publication number)：1993154473
Application date： Dec. 06, 1991
Publication date： Jun. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 光触媒の存在下において光照射による流体の光化学反応処理を効率よく行い、有機物、細菌、有害物質等を含まない高品質の処理流体を得る。【構成】 アナタース型チタン等の接触面積が大きく、かつ流体の通過性のよい形状にした光触媒の存在下において、紫外線、太陽光線等の光照射によって、流体に含まれている有機物の酸化分解、細菌の殺菌、有害物質の分解等の光化学反応処理を行うについて、流体にBrO3 等の酸化剤を添加して光化学反応処理を促進する。

Claim (excerpt)：

光触媒の存在下において紫外線、太陽光線等の光照射によって、流体に含まれている有機物の酸化分解、細菌の殺菌、有害物質の分解等の光化学反応処理を行うについて、流体にBrO3 、H2 O2、O2 、O3 の酸化剤の一種または二種以上を添加して反応処理を促進することを特徴とする流体の光化学反応処理方法。

IPC (7)：

C02F 1/32 ,  A61L 2/02 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/42 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/72 101

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭63-054992
  
• 特開平2-251241
  
• 特開平1-143630
  
• 特開昭54-028289