Pat
J-GLOBAL ID:200903049535905562

プラズマ溶射トーチ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 坂間 暁 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994307482
Publication number (International publication number):1996167497
Application date: Dec. 12, 1994
Publication date: Jun. 25, 1996
Summary:
【要約】【目的】 効率よく溶射粉体を加熱するプラズマ溶射トーチを得る。【構成】 基端部が拡大した径のプラズマジェット流路を持つとともにその周囲に冷却水通路を持つ陽極1、プラズマジェット流路の基端部の径とほぼ同径の穴を持つとともに同穴の先端部に導通する周囲ガス通路を持ち前先が陽極の基端に同軸に結合された絶縁体4、同軸に作動ガス・溶射粉体混合路を持つとともにその周囲に冷却水路を持ち前部が絶縁体の周囲ガス通路近くまで同軸に密着挿入された陰極台6、同陰極台の先端に基端が同軸に結合され外径が陽極のプラズマジェット流路の基部径よりも小さい筒形の陰極を設ける。
Claim (excerpt):
基端部が拡大した径のプラズマジェット流路を持つとともにその周囲に冷却水通路を持つ陽極と、上記プラズマジェット流路の基端部の径とほぼ同径の穴を持つとともに同穴の先端部に導通する周囲ガス通路を持ち先端が上記陽極の基端に同軸に結合された絶縁体と、同軸に作動ガス・溶射粉体混合路を持つとともにその周囲に冷却水路を持ち前部が上記絶縁体の周囲ガス通路近くまで同軸に密着挿入された陰極台と、同陰極台の先端に基端が同軸に結合され外径が上記陽極のプラズマジェット流路の基部径よりも小さい筒形の陰極とを備えてなることを特徴とするプラズマ溶射トーチ。
IPC (2):
H05H 1/42 ,  C23C 4/00

Return to Previous Page