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J-GLOBAL ID:200903049558965074

直接基礎工法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山名 正彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993107968
Publication number (International publication number):1994316941
Application date: May. 10, 1993
Publication date: Nov. 15, 1994
Summary:
【要約】【目的】 この発明は、直接基礎による建物の建築工法に関する。【構成】 建物の各柱脚部の直下地盤中に沈下低減杭を埋設し、更に前記杭の周辺部の前記直下地盤について建物を支持可能な耐力を確保できる深さまで地盤改良を行ない、次いで前記の柱脚部を含む建物の直接基礎を前記沈下低減杭及び改良地盤の上に施工し、建物の建築を進める。【効果】 従前までなら杭基礎で施工せざるを得なかった地盤条件でも、直接基礎による建物の建設が可能となり、建設コスト(特に基礎地業コスト)を大幅に低減でき経済性を高められる。
Claim (excerpt):
建物の各柱脚部の直下地盤中に沈下低減杭を埋設すること、及び前記杭の周辺部の前記直下地盤について建物を支持可能な耐力を確保できる深さまで地盤を掘削すると共にその現位置土壌とセメント系固化材とを混合処理機によって現位置で攪拌混合することによって地盤改良を行なうこと、次いで前記の柱脚部を含む建物の直接基礎を前記沈下低減杭及び改良地盤の上に施工し、建物の建築を進めることを特徴とする直接基礎工法。
IPC (2):
E02D 27/34 ,  E02D 27/28
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開平1-290824
  • 特開昭60-246928
  • 特開平4-330112

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