偏光解消イメージング装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996274162
Publication number (International publication number)：1998104079
Application date： Sep. 25, 1996
Publication date： Apr. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】試料に励起光が照射されて発生した蛍光の偏光解消の2次元像を顕微鏡下で検出して、蛍光プローブが結合したターゲットが存在する位置を高精度に特定することができる偏光解消イメージング装置を提供する。【解決手段】パルス励起光源1から出力された直線偏光のパルス励起光は、1/2波長板2により所定の偏光方位とされ、試料7に照射される。試料7から発生した蛍光は、偏光ビームスプリッタ10によりp偏光およびs偏光それぞれの直線偏光成分に分岐されて、イメージインテンシファイア13および14それぞれにより撮像される。蛍光の異方性の2次元像は、画像演算部16により、撮像された像に基づいて偏光応答補正がなされて求められる。

Claim (excerpt)：

試料を励起する直線偏光のパルス励起光を出力するパルス励起光源部と、前記パルス励起光源部から出力された前記パルス励起光の偏光方位を回転させる偏光方位回転手段と、前記偏光方位回転手段から出力された前記パルス励起光を所定方向から前記試料に照射する照射光学系と、前記パルス励起光が前記試料に照射されて発生した蛍光を前記所定方向と略同じ方向から入力し、互いに直交する第1および第2の偏光方位それぞれの直線偏光成分に分岐して互いに異なる第1および第2の結像面それぞれに結像する受光光学系と、前記第1の結像面に結像された前記蛍光の前記第1の偏光方位の直線偏光成分を撮像する第1の撮像手段と、前記第2の結像面に結像された前記蛍光の前記第2の偏光方位の直線偏光成分を撮像する第2の撮像手段と、前記第1および前記第2の撮像手段それぞれの撮像タイミングを制御する制御手段と、前記第1および前記第2の撮像手段それぞれにより撮像された前記蛍光の前記第1および前記第2の偏光方位それぞれの直線偏光成分の像に基づいて、前記試料から発生した前記蛍光の偏光解消の2次元像を求める画像演算手段と、を備えることを特徴とする偏光解消イメージング装置。

IPC (3)：

G01J 4/00 , G01N 21/21 , G01N 21/64

FI (3)：

G01J 4/00 , G01N 21/21 Z , G01N 21/64 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

分子膜の解析方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-070381 Applicant：荒磯恒久, 木村尚仁, 武笠幸一, 辻田秀明
特開平4-140661
特開昭58-117439

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