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J-GLOBAL ID：200903049632560979

複製回折格子のための反射性保護膜

Inventor：
リチャード ジー.モートン

About リチャード ジー.モートン


Applicant, Patent owner：
サイマー,インコーポレーテッド

About サイマー,インコーポレーテッド


Agent (1)： 内原 晋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998016380
Publication number (International publication number)：1998209533
Application date： Jan. 12, 1998
Publication date： Aug. 07, 1998
Summary：
【要約】【課題】 エキシマレーザなど波長選択性を高めたレーザ用の回折格子をマスタ回折格子から複製によって製造する場合の複製回折格子の寿命を延ばす。【解決方法】 この種の回折格子の製造のための慣用のプロセスに一つの工程を付加する。複製回折格子は強度の高いレーザ光の下で用いた場合に加速度的に劣化し、この劣化はアルミニウム反射膜の微細亀裂から少量の光が漏れ出ることに起因するものであることを本願発明者は見出した。また、本願発明者は複製回折格子をマスタ回折格子からとり外すときにこの問題の原因が発生することを見出した。慣用のプロセスに対するこの発明の改善点は、複製回折格子をマスタ回折格子からとり外したのち複製表面上に薄い反射性アルミニウム保護膜を堆積させる点である。この保護膜形成は真空反応室内でスパッタリングまたは蒸着によって行う。この保護膜は外力を受けないので遮光性を維持する。この保護膜の通常の厚さは約100nmである。
Claim (excerpt)：
回折格子の複製を形成する方法であって、マスタ回折格子を準備する過程と、前記マスタ回折格子の表面にレリーズ層を堆積させる過程と、前記レリーズ層を覆って第1の反射性物質層を堆積させる過程と、接着剤層および基板を前記第1の反射性物質層を覆って配置する過程と、前記接着剤層、前記基板および前記第1の反射性物質層を前記マスタ回折格子からとり外す過程と、前記第1の反射性物質層を漏れて透過した光線に対して前記接着剤層を保護するように前記第1の反射性物質層を覆って第2の反射性物質層を堆積させる過程とを含む方法。
IPC (2)：
H01S 3/08 ,  G02B 5/18
FI (2)：
H01S 3/08 Z ,  G02B 5/18
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (14)
  • レプリカ回折格子
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-289409   Applicant：株式会社島津製作所
  • 特開昭48-028336
  • 特開平2-278203
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