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J-GLOBAL ID:200903049686017863
窒化ケイ素/炭化ケイ素複合体粉末、それらの製造およびこの複合体粉末を用いて作られる高密度化材料
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小田島 平吉
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1995527088
Publication number (International publication number):1997511981
Application date: Apr. 14, 1995
Publication date: Dec. 02, 1997
Summary:
【要約】結晶性シリカ粉末と炭素粉末と任意に結晶性窒化ケイ素粉末に炭素熱還元を受けさせることで窒化ケイ素-炭化ケイ素複合体粉末を調製する。この複合体粉末の結晶性炭化ケイ素部分は約700ナノメートル未満の平均数直径を有していて窒素を含有する。この複合体粉末を用いて焼結セラミック素地および自己強化窒化ケイ素セラミック素地を製造することができる。
Claim (excerpt):
炭化ケイ素部分が窒素を含有する窒化ケイ素-炭化ケイ素複合体粉末を製造する方法であって、結晶性シリカ粉末と炭素粉末と任意に結晶性窒化ケイ素粉末を含有する混和物を窒素含有雰囲気の存在下1350°Cから1600°Cの温度に該混和物が複合α-窒化ケイ素/炭化ケイ素粉末に変化するに充分な時間加熱することを含み、ここで、該粉末の炭化ケイ素部分が10から700ナノメートルの範囲内の平均数直径を有しそして平行電子エネルギー損失分光法で測定して窒素を該炭化ケイ素部分の2から10重量パーセントの範囲内の量で含有する方法。
IPC (4):
C04B 35/626
, C01B 21/068
, C04B 35/565
, C04B 35/584
FI (5):
C04B 35/56 101 P
, C01B 21/068 Z
, C04B 35/56 101 J
, C04B 35/58 102 Q
, C04B 35/58 102 L
Patent cited by the Patent:
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