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J-GLOBAL ID:200903049689573287

工場建屋内の気流シミュレーション方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997231534
Publication number (International publication number):1999063622
Application date: Aug. 27, 1997
Publication date: Mar. 05, 1999
Summary:
【要約】【課題】 工場建屋内の粉塵濃度分布をシミュレーションにより予測し解析する方法において、複数の粉塵発生源からの粉塵を合成した粉塵濃度解析を行う。【解決手段】 換気計算手段により工場建屋内の開口部の空気の流入及び流出量を求め、3次元モデル作成手段により作成した工場建屋の3次元モデルに前記換気計算手段で求めた開口部の位置とその空気の流入及び流出量と、発熱源の位置と放熱量とを付加したデータを熱流体解析手段に入力して、工場建屋内の気流分布と温度分布とを求め、この気流分布と温度分布を求めた3次元モデルに、工場建屋内の複数箇所にある粉塵発生源の位置とその粉塵発生量の絶対的濃度について経過時間との関係を入力して、熱流体解析手段により複数の粉塵発生源から発生する粉塵量を合成した絶対的粉塵濃度分布の時系列変化を予測する工場建屋内の気流シミュレーション方法である。
Claim (excerpt):
工場建屋内の粉塵濃度分布を気流シミュレーションにより予測する方法において、換気計算手段により工場建屋の開口部を通過する空気の流入及び流出速度を求め、3次元モデル作成手段により作成した前記工場建屋の3次元モデルに、開口部の位置と前記換気計算手段で求めたその開口部を通過する空気の流入及び流出速度と、発熱源の位置と放熱量Qとを入力し、熱流体解析手段により工場建屋内の気流と温度分布とを求め、前記気流と温度分布を求めた3次元モデルに、前記建屋内の複数箇所にある粉塵発生源の位置と、その粉塵発生量について経過時間との関係を入力し、前記熱流体解析手段により前記複数の粉塵発生源から発生する粉塵量を合成した絶対的粉塵濃度分布の時系列変化を予測することを特徴とする工場建屋内の気流シミュレーション方法。
IPC (2):
F24F 11/02 ,  G06F 17/00
FI (2):
F24F 11/02 Z ,  G06F 15/20 D
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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