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J-GLOBAL ID：200903049691877323
フォトマスクの欠損欠陥修正方法および装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994300003
Publication number (International publication number)：1996160600
Application date： Dec. 02, 1994
Publication date： Jun. 21, 1996
Summary：
【要約】【目的】 フォトマスクの欠損欠陥修正後に薬液等で洗浄しても剥離することない薄膜を欠損欠陥部分を完全に覆うように堆積させる。【構成】 クロム化合物ガス雰囲気中に配置されたフォトマスク10の欠損欠陥部分22に紫外レーザ光を照射することによって、その欠損欠陥部分22を完全に覆うように第1の薄膜25を堆積させる第1の工程と、前記第1の薄膜25を含む領域に可視レーザ光を照射することによって、前記第1の薄膜25を完全に覆うように第2の薄膜28を堆積させる第2の工程とを行う。
Claim (excerpt)：
CVD原料ガス雰囲気中に配置されたフォトマスクの欠損欠陥部分に紫外レーザ光を照射することによって、その欠損欠陥部分を完全に覆うように第1の薄膜を堆積させる第1の工程と、前記第1の薄膜を含む領域に可視レーザ光を照射することによって、前記第1の薄膜を完全に覆うように第2の薄膜を堆積させる第2の工程とを含むことを特徴とするフォトマスクの欠損欠陥修正方法。
IPC (4)：
G03F 1/08
, B23K 26/06
, B23K 26/12
, H01L 21/027
