ガス化触媒とその製造方法およびガス化処理システム

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：鈴木崇生 , 梶崎弘一 , 尾崎雄三 , 谷口俊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005094954
Publication number (International publication number)：2006068723
Application date： Mar. 29, 2005
Publication date： Mar. 16, 2006
Summary：

【課題】高価な貴金属系の触媒を使用することなく、炉内を1000°C以下の低温で操業してもガス化成分中のタール成分などを効果的に抑制可能なガス化触媒とその製造方法およびガス化処理システムを提供する。【解決手段】ドロマイト類とニッケル塩との複合体を有する。この複合体が炭酸化されていると共にニッケル5〜30wt%を含み、ドロマイト類とニッケルの複合体の表面にニッケル成分が高分散されているガス化触媒。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

ドロマイト類とニッケル塩との複合体を有するガス化触媒であって、前記複合体が炭酸化されていると共にニッケル5〜30wt%を含み、前記ドロマイト類とニッケルの複合体の表面にニッケル成分が高分散されているガス化触媒。

IPC (3)：

B01J 27/232 , C10J 3/00 , C10J 3/54

FI (3)：

B01J27/232 M , C10J3/00 A , C10J3/54 A

F-Term (36)：

4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169BA16A , 4G169BA16B , 4G169BB01C , 4G169BB12C , 4G169BB16A , 4G169BB16B , 4G169BB16C , 4G169BC59A , 4G169BC59B , 4G169BC59C , 4G169BC60A , 4G169BC60B , 4G169BC60C , 4G169BC67A , 4G169BC67B , 4G169BC67C , 4G169BC68A , 4G169BC68B , 4G169BC68C , 4G169BD01C , 4G169BD02C , 4G169BD04C , 4G169BD06C , 4G169CC19 , 4G169ED07 , 4G169ED08 , 4G169FB06 , 4G169FB30 , 4G169FB78 , 4G169FB80 , 4G169FC02 , 4G169FC04 , 4G169FC07 , 4G169FC08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

バイオマスのガス化方法、およびそれに用いられる触媒
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-366823 Applicant：東北大学長

Cited by examiner (1)

特公昭57-051880

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