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J-GLOBAL ID：200903049703770783

チタノシリケートの製造方法及びチタノシリケート

Inventor： 山本 勝俊 ,  村松 淳司
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東北大学
Agent (4)： 重信 和男 ,  清水 英雄 ,  高木 祐一 ,  中野 佳直
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006073653
Publication number (International publication number)：2007145687
Application date： Mar. 17, 2006
Publication date： Jun. 14, 2007
Summary：

【課題】従来の技術では、高価な原材料を使用しなければならないという問題と、同時に、加水分解速度のコントロールが難しく、チタンの分散度が高いチタノシリケートが再現性良く得られないという問題があった。本発明は、安価な原材料から、チタンの分散性の高いチタノシリケートを、再現性良く製造する方法を提供することを目的としている。【解決手段】本発明によれば、シリカ粉末とチタニア粉末を粉砕、混合することによりメカノケミカル反応で得られたシリカ-チタニア複合粉を原材料として用いることを特徴とするチタノシリケートの製造方法が得られる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

シリカ粉末とチタニア粉末を粉砕、混合することによりメカノケミカル反応で得られたシリカ-チタニア複合粉を原材料として用いることを特徴とするチタノシリケートの製造方法。

IPC (1)：

C01B 33/20

FI (1)：

C01B33/20

F-Term (17)：

4G073BA20 ,  4G073BA24 ,  4G073BA36 ,  4G073BA63 ,  4G073BA84 ,  4G073BD11 ,  4G073CD01 ,  4G073CZ49 ,  4G073CZ50 ,  4G073FB11 ,  4G073FB50 ,  4G073FD01 ,  4G073FF04 ,  4G073GA03 ,  4G073GA19 ,  4G073GB03 ,  4G073UA01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開昭56-96720号公報
  
• 結晶性チタノシリケートゼオライトおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-363875   Applicant：東ソー株式会社