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J-GLOBAL ID：200903049712330109

ポジ型感光性耐熱材料

Inventor： ▲たか▼橋 秀明 ,  愛 英夫
Applicant, Patent owner： 旭化成工業株式会社
Agent (1)： 清水 猛 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996354657
Publication number (International publication number)：1998186664
Application date： Dec. 20, 1996
Publication date： Jul. 14, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 現像性に優れ、かつ溶液状態での保存安定性と硬化膜機械特性に優れたポジ型感光性耐熱材料を提供する。【解決手段】 活性光線の照射によって酸性を呈する基とフェノール性水酸基とを共に有する次の一般式(1)または(2)で示される構造の基本単位を有する、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール等の耐熱性材料前駆体を用いる。(式中、R1は(2+m)価の芳香族炭化水素基、R2は少なくとも2個の炭素原子を有する(2+n)価の有機基、R3は水素原子および/又は酸性条件下で脱離可能な有機基、R4は活性光線の照射により酸を発生する基を表し、mは1〜5の整数、nは1又は2である。)(式中、R3は前記と同じ、R5は(2+p)価の芳香族炭化水素基、R6は少なくとも2個の炭素原子を有する4価の有機基、R7は前記R4等で示される基、pは0〜5の整数を表す。)

Claim (excerpt)：

一般式(1)【化1】(式中、R1 は(2+m)価の芳香族炭化水素基、R2 は少なくとも2個の炭素原子を有する(2+n)価の有機基、R3 は水素原子および/又は酸性条件下で脱離可能な有機基、R4 は活性光線の照射により酸を発生する基を表し、mは1〜5の整数、nは1又は2である。)または、一般式(2)【化2】(式中、R3 は前記と同じ、R5 は(2+p)価の芳香族炭化水素基、R6 は少なくとも2個の炭素原子を有する4価の有機基、R7 は前記R4 および下記一般式(3)【化3】(式中、R8 は炭素数1〜4のアルキレン基、R9 は炭素数1〜3のアルキル基、R10は水素原子および/又は酸性条件下で脱離可能な有機基、qは0〜3の整数、rは1〜3の整数を意味する)で示される基、pは0〜5の整数を表す。)で示される構造の基本単位を有するポリマーを含有して成るポジ型感光性耐熱材料。

IPC (6)：

G03F 7/039 601 ,  C08G 73/10 ,  C08L 79/08 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 504 ,  H01L 21/312

FI (6)：

G03F 7/039 601 ,  C08G 73/10 ,  C08L 79/08 A ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/038 504 ,  H01L 21/312 B