フイルム露光装置におけるマスクの精度の測定方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991181611
Publication number (International publication number)：1993005981
Application date： Jun. 27, 1991
Publication date： Jan. 14, 1993
Summary：

【要約】【目的】マスクの精度の測定を簡単に行う。【構成】マスクに設けられた回路パターンをフィルムに露光する前に、露光位置に基準露光板を配置させる。そしてマスクに設けられたアライントマークと、基準露光板に設けられた対応するアライメントホールとの位置関係を検出してマスクの精度を測定する。

Claim (excerpt)：

フィルムに並ぶ複数のコマに、マスクに形成された回路パターンを順次に露光していくフィルム露光装置の、マスクの精度を測定する方法であって、フィルムに回路パターンを露光する前に、露光位置に、2つのアライメントホールを有する基準露光板を配置させ、この2つのアライメントホール間の距離は予め記憶されており、前記マスクには、回路パターンとは別に、アライメントホールに対応するアライメントマークが2つ形成され、前記マスクは、アライメントホールの位置に、対応するアライメントマークの像が投影される範囲内で、同一平面内で移動され、アライメントホールの各々において、対応するアライメントマークの像が投影されている状態を検出して、この検出された2つの投影像情報と、予め記憶されているアライメントホール間の距離情報から、マスク上に形成されたアライメントマーク間の距離の誤差を知ることを特徴とするフィルム露光装置におけるマスクの精度の測定方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 V , H01L 21/30 341 K

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭52-051874
特開昭52-051874
特開昭60-021523

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