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J-GLOBAL ID：200903049712861287
オゾン水処理方法及び装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
森 浩之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993189252
Publication number (International publication number)：1995016582
Application date： Jun. 30, 1993
Publication date： Jan. 20, 1995
Summary：
【要約】【目的】 従来のオゾンを使用する超純水処理装置では超純水製造装置がオゾンに対する耐性を有しないため処理済のオゾン水を循環使用できず、又循環使用を試みる場合でも完全にオゾン除去を達成できないため循環オゾン水により超純水製造装置の性能が劣化するという問題点があった。本発明はオゾン水処理システムにおける使用済オゾン水を放流又は循環する前に該オゾン水中の残留オゾンや酸素をほぼ完全に除去できる方法及び装置を提供することを目的とする。【構成】 オゾン含有超純水を使用して処理を行うユースポイント9の下流側のリターンライン10に触媒を充填した水素散気装置11を設置し、該装置内で使用済オゾン水と水素含有ガスを接触させて残留オゾン及び酸素を除去する。この使用済純水をそのまま系外に放流しても環境を汚染することがなく、又循環再使用しても超純水製造装置の性能を劣化させることがない。
Claim (excerpt)：
一次純水を少なくともポリシャーを含む超純水製造装置に供給して超純水とし該超純水にオゾン含有ガスを注入してオゾン水を調製し、該オゾン水をユースポイントに送水して被処理体の処理に使用し使用後の前記オゾン水を前記超純水製造装置に循環して再使用しあるいは放流するようにしたオゾン水処理方法において、ユースポイントより下流側に水素含有ガスを供給して前記オゾン水中の残留オゾンを除去することを特徴とするオゾン水処理方法。
IPC (6)：
C02F 1/78
, C02F 1/50 510
, C02F 1/50 520
, C02F 1/50 531
, C02F 1/50 540
, C02F 1/50 550
