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J-GLOBAL ID：200903049819947966

露光方法及び露光装置

Inventor： 平柳 徳行
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (2)： 渡部 温 ,  柳瀬 睦肇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002322822
Publication number (International publication number)：2004158643
Application date： Nov. 06, 2002
Publication date： Jun. 03, 2004
Summary：

【課題】マスク交換を効率的に行えるよう改良を加えた露光方法及び露光装置を提供する。【解決手段】複数枚のマスクA、Bのうち露光装置のマスクステージ11上に搭載していないマスクBを、マスクへの搬送装置50(ローダー)のエンドエフェクタ59-2上で待機させる。そして、1枚の感応基板の露光の途中でマスクステージ11上のマスクAと待機中のマスクBを交換しながらABBAABBAABB...と露光する。これによりマスクの交換回数を減らすことができ、装置全体のスループットが向上し、さらに、ローダー50の作動回数を減らすことができるため、ローダー50の作動に伴う振動の発生や磁場の外乱を最小に抑えることができる。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

1枚の感応基板上に形成するデバイスパターンの1つのレイヤーの露光に複数枚のマスクを用いてパターンを前記感応基板上に転写する露光方法であって、 前記複数枚のマスクのうち露光装置のマスクステージ上に搭載していないマスクを、前記マスクの搬送装置(ローダー)上で待機させることを特徴とする露光方法。

IPC (3)：

H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/68

FI (4)：

H01L21/30 541S ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/68 F ,  H01L21/30 502J

F-Term (27)：

5F031CA02 ,  5F031CA07 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA04 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031GA03 ,  5F031GA40 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031HA16 ,  5F031HA53 ,  5F031JA04 ,  5F031JA28 ,  5F031JA32 ,  5F031JA38 ,  5F031KA06 ,  5F031MA27 ,  5F031PA03 ,  5F046CD02 ,  5F046CD04 ,  5F056AA22 ,  5F056AA40 ,  5F056FA01 ,  5F056FA10