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J-GLOBAL ID：200903049821077529

塗布、現像装置

Inventor： 佐藤 紀勝 ,  緒方 久仁恵 ,  木村 義雄 ,  富田 浩 ,  中島 清次
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 井上 俊夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000217722
Publication number (International publication number)：2002033266
Application date： Jul. 18, 2000
Publication date： Jan. 31, 2002
Summary：

【要約】【課題】 レジストパターンが形成された基板について、塗布、現像装置の中でパターン検査を行うことができるようにすると共に、組み込んだパターン検査装置を単独で使用できるようにすること。【解決手段】 塗布、現像装置のキャリアステーションの横に、パターン検査ユニット及び補助アームを備えた検査ステーションを接続すると共に、例えば両ステーションの一方側に中間載置部を設け、この中間載置部を介してキャリアステーションの受け渡しアームと前記補助アームとの間でウエハの受け渡しを行うように構成する。当該装置で現像されたウエハは受け渡しアームを介して検査ステーションに搬入され、また例えば処理ステーションのメンテナンス時などにおいては、外部からキャリアステーションにキャリアを搬入し、受け渡しアームを利用してそのキャリア内のウエハを検査ステーションに搬入する。

Claim (excerpt)：

基板にレジストを塗布すると共に露光後の基板を現像し、露光装置に接続される塗布、現像装置において、複数枚の基板が収納されたキャリアが搬入出されるキャリア搬入出部とこのキャリア搬入出部に載置されたキャリアに対して基板の受け渡しを行うための受け渡し手段とを含むキャリアステ-ションと、このキャリアステ-ションに隣接して設けられ、基板にレジストを塗布する塗布部と、露光後の基板に対して現像を行う現像部と、塗布部及び現像部に対して基板の搬送を行うと共に前記受け渡し手段との間で基板の受け渡しを行う主搬送手段と、を含む処理ステ-ションと、前記キャリアステ-ションに隣接して設けられ、処理後の基板を検査する検査部を備えた検査ステ-ションと、外部で処理した基板を収納したキャリアが持ち込まれるための外部キャリア載置部と、前記処理ステ-ションで処理された基板を検査部で検査する通常モ-ドと外部で処理された基板を検査部で検査する検査部単独使用モ-ドとの間でモ-ドを選択するモ-ド選択手段と、を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。

IPC (6)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/66 ,  H01L 21/68 ,  H05K 3/00

FI (7)：

G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/68 A ,  H05K 3/00 Q ,  H01L 21/30 562 ,  H01L 21/30 502 V

F-Term (52)：

2H025AB16 ,  2H025EA04 ,  2H096AA25 ,  2H096GA24 ,  2H096GA29 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106CA50 ,  4M106CA55 ,  4M106CA70 ,  4M106DB04 ,  4M106DJ02 ,  4M106DJ06 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ38 ,  4M106DJ40 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA03 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA36 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA58 ,  5F031JA02 ,  5F031JA04 ,  5F031JA06 ,  5F031JA23 ,  5F031JA32 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA09 ,  5F031MA13 ,  5F031MA15 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA33 ,  5F031PA02 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046JA04 ,  5F046JA22 ,  5F046LA01 ,  5F046LA18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 基板処理装置及び基板処理システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-352708   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 処理方法及び塗布現像処理システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-252316   Applicant：東京エレクトロン株式会社