Pat
J-GLOBAL ID：200903049833318823
回折格子の製造方法および光波長変換素子の製造方法
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994023934
Publication number (International publication number)：1995234310
Application date： Feb. 22, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：
【要約】【目的】 光学基板の裏面反射をなくし、均一性の高い回折格子をレジスト上に形成する。【構成】 光学結晶基板11上にTa膜12を形成し、前記Ta膜12上にレジスト13を塗布して、通常のフォトリソグラフィにより回折格子形成部分14をパタ-ニングする。その後レジストパタ-ンをドライエッチングでTa膜上に転写する。再びレジストを塗布し、干渉露光法により露光を行うと、光学基板11裏面からの反射光を防ぎ、回折格子形成部分14に深く、均一な回折格子ができる。
Claim (excerpt)：
光学基板上に回折格子を製造する方法において、前記光学基板上に回折格子形成部分(回折格子長x)を除いて、使用されるレ-ザ-光を遮断する物質により膜を形成する工程と、前記膜上にレジストを塗布する工程と、前記レジストを露光した後、現像する工程とを含むことを特徴とする回折格子の製造方法。
IPC (2)：
Return to Previous Page
